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X射線熒光光譜儀早期照射面積需20毫米以上
發布時間：2020-04-24 09:01:10 點擊：4100
在X射線熒光光譜儀出現后，其迅速在各種科研和工業領域得到了廣泛的應用。在其發展前期,主要還是應用基本的，隨著科技的發展，在一些精度要求較高的領域，例如半導體行業襯底表面的超薄貴金屬鍍層的檢測，痕量貴金屬元素的檢測等，傳統的X射線熒光光譜儀已不能滿足人們的需求。
X射線熒光光譜儀早期照射面積需20毫米以上
為了解決這一問題，20世紀70年代出現了針對痕量貴金屬檢測的偏振XRF(US3944822)和全反射式XRF (DE2727505 AD)C使用偏振XRF分析樣品可顯著降低康普頓和相干散射信號。全反射XRF可以大大降低本來對痕量分析不利的X射線背景。DE2727505 A1中公開的全反射XRF能夠檢測硅襯底上的超薄金屬鍍層。
20世紀90年代，隨著人們生活水平的不斷提高,各種貴金屬產品(例如首飾，珠寶，黃金)的消費需求也逐年增長，與此同時，人們對貴金屬產品的質量也越來越關注。此時，市面上已經出現了一批X射線熒光光譜儀，但是上述市場上出售的X射線熒光光譜儀要求被分析的樣品應具有平坦而均勻的被照射面積，才能獲得可靠而精確的結果。這些光譜儀的照射面積比較大(一般直徑20毫米以上)，然而，很多貴金屬產品，例如金銀項鏈,鉑金鉆戒等都比較精致，形狀結構復雜，有的還鑲嵌珠寶或其他合金，因此，使用這類X射線熒光光譜儀難以對首飾等貴金屬產品進行可靠的分析。
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